三达膜：硅片清洗水处理方案
来源：北京惠源三达水处理设备有限公司 阅读：1741 更新时间：2009-09-03 15:28硅片清洗水处理方案
一、应用范围概述：
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗电子管生产 电子管阴极涂敷碳酸盐配液 显像管和阴极射线管生产配料用纯水 黑白显像管荧光屏生产 玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水 液晶显示器的生产 屏面需用纯水清洗和用纯水配液晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制 集成电路生产中高纯水清洗硅片。
二、典型工艺流程
预处理系统－反渗透系统－中间水箱－粗混合床－精混合床－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM）(传统工艺)
预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM）(最新工艺)
预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯水箱－纯水泵－EDI装置－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥17MΩ.CM） (最新工艺)
预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）(最新工艺)
处理系统－反渗透系统－中间水箱－纯水泵－粗混合床－精混合床－紫外线杀菌器－精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）(传统工艺)
三、达到标准
纯化水标准，注射水标准 显像管、液晶显示器用纯水水质（经验数据）
集成电路用纯水水质
国家电子级纯水标准
美国SEMI标准
四、设备特点
为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
我公司产品
●制取电子工业生产如单晶硅、半导体、集成电路块、IC芯片封装、显象管、玻壳、液晶显示器、光学、光电、热电厂、冶金、化工、轻工、汽车制造、制药、医疗卫生等制造工业用纯水。
●单晶硅、半导体、集成电路块、IC芯片封装行业纯水设备、太阳能硅片清洗水设备
●医药行业用水：制药、制剂工艺用水，医疗血液透析、生化分析、输液等。
●制取热力、火力发电锅炉，厂矿企业中、低压锅炉给水所需软化水、除盐纯水。
●制取饮料行业的饮用纯净水、蒸馏水、天然水、矿泉水、矿化水、酒类生产白酒勾兑用纯水、啤酒糖化投料用水及纯生啤酒过滤等。
●宾馆、楼宇、社区优质供水网络系统及游泳池水质净化。
●制取电镀工艺用去离子水、电池（蓄电池、锂电池）生产工艺的纯水，汽车、家用电器、建材产品表面涂装、清洗 纯水，镀膜玻璃用纯水，纺织印染工艺所需的除硬盐水。
●石油化工如化工反应冷却、化学药剂、化肥及精细化工、化妆品制造过程用工艺纯水。
●去离子水、CEDI水、超纯水、软化水、废水（污水）中水回用、电子工业用超纯水、单/多晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线框架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光驼信、电脑元件、电容元器件等生产工业用纯水。
●PCB超纯水半导体LED超纯水处理设备太阳能硅片纯水处理
纯化水、注射用水光学玻璃超纯水清洗，LCD清洗工业用水 光学镀膜水处理
