TRASAR® 技术为国内某半导体厂的工艺冷却水系统提供完美的水质控制
来源：纳尔科（中国）环保技术服务有限公司 阅读：4488 更新时间：2013-07-18 16:39背景
某家处于市场领先地位的半导体芯片制造商在全球建立了制造工厂网络。工艺冷却水（PCW）系统是这些工厂关键的生产辅助系统，通过闭路循环为生产设备连续和稳定地提供冷却水（见图1）。半导体生产设备的温度必须严格控制，PCW系统的任何轻微问题都有可能造成严重的生产损失。
过滤器使用寿命从3个月延长至1年
减少设备清洗和维护频率
避免因水质问题可能造成的停机时间
每年减少过滤器更换成本58,968元
每年节省清洗和维护成本252,000元
每年增加工厂产值2,520,000元
案例研究 – 微电子业
该公司在中国拥有多家芯片组装和测试工厂，其中一家工厂在PCW水质控制方面遇到了浊度高、含铁高和高温区严重结垢等问题。这些问题导致了多台生产设备计划外停机，造成了严重的生产损失。
因此，该客户请求纳尔科帮助其改进PCW的水质控制。
问题
因工厂产能扩大，冷却水系统的负荷迅速增加，造成如下问题：
当新系统连接至PCW系统时，在扩充区域存在大量流速较低的死水区，造成水的浊度增大和含铁量增加，从而导致堵塞过滤器、损坏管道和设备以及增加循环泵的能耗
在新的使用点连接至系统之前，没有预先进行适当的冲洗，造成水的浊度增加，导致过滤器堵塞和过滤器更换频率增加
冷却水系统采用自来水作为补给水，这些高硬度（Ca2+, Mg2+）的补给水会导致高温区域（200°C以上）严重结垢
水的损失导致化学药剂的浓度不稳定
没有严格控制水质，针对水质出现的异常反应迟缓。
解决方案
纳尔科从机械、操作和化学处理（MOC）三个方面对客户的冷却水系统进行了全面的分析，推荐客户采用如下解决方案：
将补给水水源从自来水改为反渗透水，以消除补给水中的钙镁离子，从而解决高温应用区域的结垢问题
协助客户完成新装设备的冲洗程序
采用纳尔科的3D TRASAR技术，根据需要自动控制和优化冷却水的加药量以防止腐蚀、结垢和微生物污染，持续保护冷却水系统。应用于PCW系统的3D TRASAR技术可以提供如下功能：
实时监测pH值、电导率、浊度、温度和化学药剂浓度等水质参数
通过纳尔科腐蚀性监测仪（NCSM）实时监测腐蚀速率
自动控制化学药剂的加药量
监测补水量/系统泄露
将PCW系统中的3D TRASAR控制系统连接到纳尔科360服务系统，即可提供全天候实时监测和报警功能，向用户提供系统参数和报告运行状况
（点击下载方案全文）
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